PLD apparecchiature laser pulsate per deposizione sputtering per il rivestimento ottico a pellicola

Model No.
CY-PLD-450
Stato
Nuovo
dimensione di destinazione
diametro 60mm e diametro 25mm
temperatura massima di riscaldamento del substrato
800 c+-1c
numero di target
quattro
materiale della camera a vuoto
acciaio inossidabile di alta qualità
Pacchetto di Trasporto
Standard Export Wooden Box Packaging
Specifiche
vacuum chamber diameter 450mm
Marchio
CYKY
Origine
Zhengzhou, China
Codice SA
8424899990
Capacità di Produzione
200 Sets Per Month
Prezzo di riferimento
$ 45,000.00 - 58,500.00
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Descrizione del Prodotto

 Sistema di deposizione laser pulsata PLD per il rivestimento ottico di film  
1. Funzione attrezzatura
L'apparecchiatura della serie PLD viene utilizzata principalmente per la crescita di cristalli ottici, ferroelettrici, ferromagneti, superconduttori e materiali a film sottile composti organici, particolarmente adatti per la crescita di materiali a film sottile superreticolo stratificato complesso con elevato punto di fusione, elementi multipli e contenenti elementi gassosi.

2. Panoramica dell'attrezzatura
L'apparecchiatura può essere suddivisa in cinque parti a seconda della struttura estetica: Camera di deposizione PLD, sistema di misurazione del vuoto, sistema di pompaggio a vuoto, banco da lavoro e armadio elettrico di controllo.
2.1 Camera di deposizione PLD
Struttura sferica della camera da vuoto, dimensione Φ450mm, realizzata in acciaio inox 1Cr18Ni9Ti, saldatura ad arco in argon, trattamento superficiale con pallini in vetro opaco. La velocità di perdita del vuoto è inferiore a 5.0×10 -8Pa .i/S. L'interfaccia è sigillata con una guarnizione metallica o un anello in gomma fluorurata, e un cilindro da Φ220 sotto la camera a vuoto è installato sulla superficie di lavoro. La flangia del tagliente CF150 è collegata sotto e la valvola a saracinesca manuale CF150 è collegata. Collegare il complessivo tubo di bypass CF150 e il sistema della pompa molecolare 620. Davanti alla camera a vuoto è presente uno sportello a tenuta con anello in gomma con una finestra di osservazione, con un diametro di Φ150mm, che viene utilizzato per l'ingresso e l'uscita del campione e per la sostituzione e la manutenzione del materiale di destinazione. Installare la piattaforma di destinazione rotante sul lato sinistro della finestra di osservazione. Installare il piano di riscaldamento campione direttamente di fronte al piano di appoggio rotante. Sullo stesso piano orizzontale della piattaforma di destinazione rotante, ad un angolo di 135°, sono disposte due finestre di osservazione incidenti con un diametro di Φ100mm. Dotate di quarzo a infrarossi e ultravioletti ciascuno. Sopra la camera a vuoto, è presente un'operazione con un diametro di Φ100mm e due finestre di osservazione del test. Sono inoltre disponibili due porte per flangia di ricambio CF35 per gli aggiornamenti delle attrezzature. Il corpo della camera del vuoto è dotato di misuratore di resistenza, misuratore di ionizzazione, valvola angolare manuale di pre-pompaggio KF40, valvola di sfiato manuale Φ10 ed elettrodo per illuminazione da forno CF35.
2.1.1 fase di rotazione target
1. Quattro bersagli possono essere installati una volta, la dimensione del bersaglio: (i) Φ60mm~Φ25mm;
  2. Ciascun materiale bersaglio può realizzare l'autorotazione, la velocità è di 5-50 giri/min, regolabile in continuo, e controllato dal meccanismo di accoppiamento magnetico azionato dal motore passo-passo;
  3. Il meccanismo di trasposizione di rivoluzione di posizione obiettivo è controllato da un meccanismo di accoppiamento magnetico azionato da un motore passo-passo;
  4. La copertura di schermatura del bersaglio scherma i tre bersagli, e solo un bersaglio è esposto per spruzzamento catodico per formare una pellicola alla volta per evitare la contaminazione incrociata tra i bersagli.
2.1.2 componenti della fase di riscaldamento del campione
  1. Dimensione del substrato: Φ60mm, può posizionare campioni Φ10mm-Φ60mm, adottare un metodo di fissaggio meccanico, e sostituire il campione sostituendo il coperchio del substrato;
  2. La temperatura massima del riscaldamento del campione è di 800ºC ± 1ºC; è controllata dal feedback a circuito chiuso della termocoppia; (è possibile effettuare riscaldatori speciali per la ricerca sugli ossidi)
3. Il substrato può ruotare in modo continuo, la velocità è di 5~50 rpm, che è completata da un motore a passo che aziona il meccanismo ad albero;
  La distanza tra il bersaglio e il substrato può essere regolata a 20 mm, che è completata dal meccanismo di regolazione manuale del soffietto all'esterno della cavità del substrato in movimento;
2.1.3 Accessori per finestre
1. Φ100mm finestra in vetro al quarzo (banda ultravioletta 248 nm, per incidenza laser)
2. Finestra in vetro al quarzo da Φ100mm (banda a infrarossi)
3. Φ100mm finestra ottica in vetro
2.1.4 sistema di pompaggio a depressione
Dotato di 1 pompa molecolare KYKY-160/620,
Dotato di 1 pompa meccanica 2XZ-8B,
Dotato di tubi a soffietto da 4 Ф40.
Dotato di 1 valvola di scarico dell'aria,
Dotato di 2 KF40 con valvole a depressione a solenoide di sfiato,
Dotato di 1 KF40 con valvola elettromagnetica a depressione gonfiabile,
Dotato di 1 valvola manuale a saracinesca CF150,
Dotato di 2 valvole angolari manuali CF35,
Dotato di un set di setacci molecolari
2.1.5 percorso del vuoto
Dotato di flussometro di massa a due canali, calibrazione gas N2. 100 SCCM. Entrare attraverso il serbatoio di miscelazione del gas e attraverso la valvola angolare manuale.
2.1.6 sistema di misurazione del vuoto
Il sistema di misurazione del vuoto è composto da un misuratore e da un vacuometro. La macchina è dotata di misuratori di resistenza a inserimento diretto e di misuratori a ionizzazione metallica. Misurare il grado di vuoto dell'atmosfera~2x10 -5Pa .
2.1.7 Workbench
Il banco di lavoro è composto da un telaio e da un paranco. Il rack è lo scheletro dell'apparecchiatura, installando le parti di supporto. Installare il percorso del gas, lo scarico dell'acqua e altri componenti all'interno.
2.1.8 quadro elettrico di comando
L'armadio elettrico di controllo è dotato di un'unità di controllo touch screen, un display di flusso, un alimentatore di riscaldamento del substrato, un alimentatore a ionizzazione, un alimentatore a pompa molecolare da 620 l e un alimentatore totale.
1. L'unità di controllo del vuoto è controllata da PLC + touch screen, che controlla il sistema di pompaggio a vuoto, il processo di movimento di rotazione del campione e il sistema di illuminazione. Il touch screen è uno schermo a colori da 7 pollici.
2. Il substrato e l'alimentatore di controllo del riscaldamento organico sono composti da un misuratore di SR3 conduttivo. La precisione del controllo della temperatura è ± 0.5ºC. La temperatura massima di riscaldamento è 800ºC.
3. Indicatore di flusso una cinghia due.
4. L'alimentatore a ionizzazione viene utilizzato per pulire il substrato, 3KW/1KW.
5. L'alimentazione della pompa molecolare FF160/620 controlla l'avvio, l'arresto e il funzionamento della pompa molecolare.
6. Nella parte inferiore si trova la scatola principale dell'area di alimentazione. Quando l'interruttore aria è chiuso, l'apparecchiatura viene accesa nel suo complesso. Con allarme sequenza di fase.

3. Principali parametri tecnici:
Il vuoto finale della camera di deposizione PLD: Migliore di 5x10 -5Pa
Velocità di pompaggio camera di deposizione PLD: Superiore a 7x10 -4Pa in 40 minuti
Pressione camera di deposizione PLD: 12 ore <10Pa
Riscaldamento del substrato: 800ºC, precisione del controllo della temperatura: ± 0.5ºC
Velocità di movimento del substrato: 5~50 rpm
Posizione target: 4 posizioni.
Dimensioni del substrato: Φ60 pezzo.
 
4. Ambiente operativo
Alimentazione: ~sistema di alimentazione trifase a cinque fili da 380 V, potenza <7 KW
Acqua di raffreddamento: Volume di circolazione>15 l/min, temperatura dell'acqua di raffreddamento 15ºC ~ 30ºC . Capacità di raffreddamento>600 W. (Si consiglia di utilizzare acqua deionizzata, serbatoio dell'acqua indipendente)
Temperatura ambiente di lavoro: 10ºC ~ 40ºC. Umidità ambiente di lavoro: 30%~60%
Spazio sul pavimento: 2000x2500mm
 
Foto correlate del sistema di deposizione sputtering laser a impulsi personalizzabile:

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PLD Pulsed Laser Sputtering Deposition Equipment for Optical Film Coating

Fondata nel 2005, Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd. È un'azienda specializzata nello sviluppo e nella produzione di attrezzature per la ricerca tecnologica di laboratorio. I prodotti sono mescolati, pressati, bruciati, tagliati, macinati, apparecchiature analitiche lucidate, rivestite e materiali di consumo correlati. I prodotti includono apparecchiature di sinterizzazione da laboratorio, apparecchiature di rivestimento e così via. Attualmente, è stato esportato in 25 paesi e regioni come gli Stati Uniti, l'Europa e il Sud-Est asiatico, ed è stato accolto con favore da varie unità di ricerca scientifica.

Abbiamo un team maturo di ricerca e sviluppo tecnologico, il numero di tecnici è 33, l'azienda ha 150 persone, più di 500 metri quadrati di spazio ufficio, la fabbrica copre un'area di circa 1,500 metri quadrati situato nel Parco industriale elettronico zona high-tech Zhengzhou. I prodotti sono principalmente localizzati nel mercato della ricerca, al servizio della ricerca scientifica nei laboratori di università e università, e possono anche personalizzare i prodotti in base alle vostre esigenze.

PLD Pulsed Laser Sputtering Deposition Equipment for Optical Film Coating
PLD Pulsed Laser Sputtering Deposition Equipment for Optical Film Coating

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A.  il periodo di garanzia del prodotto è di 12 mesi, possiamo fornire una manutenzione a vita. Disponiamo di reparti professionali di prevendita e post-vendita in grado di rispondere entro 24 ore per risolvere qualsiasi problema tecnico.

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